我国新一代光刻机模型亮相

我国新一代光刻机模型亮相

在第九届中国国际进口博览会的中国馆展区，上海微电子装备集团带来自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机 SSC800、SSB800 模型对外展出，本次展出的剖视模型可以直观展示设备内部光路、机电结构布局，是我国前道光刻装备自主化进程里的重要阶段性成果，该平台适配 I-line、KrF 两类主流光刻技术路线，多项核心系统实现自主可控，相关机型已经在国内多条芯片量产产线稳定投入使用。

这套新一代光刻机平台采用标准化的整机架构，高精度物镜照明系统、高速双工件台与掩模台、自动物料传输系统、对准传感系统都完成自研配套，关键零部件国产化率突破百分之九十，设备的套刻精度、生产效率持续对标国际同类产品，已经落地的设备累计支持晶圆流片数量超过千万片，设备有效运行率稳定在百分之九十二以上，可以支撑逻辑芯片、存储芯片以及各类泛半导体器件的制造需求。上海微电子也是国内具备前道干式光刻机稳定交付能力的主体，持续围绕光刻装备开展研发迭代，不断补齐半导体产业链上游装备短板。

国产光刻装备的持续突破，将为国内半导体产业链自主安全提供有力支撑，除了前道光刻设备之外，国内科研机构和企业也在同步布局激光直写、掩模光刻等不同类型光刻装备研发，覆盖芯片制造、光子芯片、微纳光学器件等多个应用场景。后续相关技术迭代、新机交付的信息，大家可以关注企业官方发布以及行业权威媒体的报道。

【数据来源】

[2026-11-08] 重大突破我国新一代光刻机模型亮相进博会 中国青年网

[2026-11-07] 上海微新一代光刻机亮相进博会 中国电子报

[2026-11-07] 国产光刻机最新资讯 快科技

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